![晶体硅太阳电池物理](https://wfqqreader-1252317822.image.myqcloud.com/cover/670/35808670/b_35808670.jpg)
5.2 半导体的电阻率
当半导体施加外电场时,半导体中的电荷将受电场力的作用而移动。
按照电学原理,电荷在电场中的位置a处具有一定的势能Ea,每个电荷受电场力qF作用。电荷将在电场力的作用下移动,移动时所作的功Aa是电势能改变的量度,即
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式中:Ea为相对于电荷q在无限远处电势为0时的电势能;Aa表示电荷q从电场中a点移到无穷远处电场力所作的功。
按照式(4-48),电场作用力qF等于势能梯度的负值,即
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式中,负号表示电场方向与电势能Ea梯度相反。
按照式(4-43),电场中半导体材料的某一点电子的静电势ψ与电子势能E的关系可表示为
![](https://epubservercos.yuewen.com/F2D238/19118078808017706/epubprivate/OEBPS/Images/40104_95_2.jpg?sign=1739554826-MB9FcZMWKNQjFnQhObBjyhgRJWrgpVdw-0-e12862fbd856fdf826bae939073811ce)
由于在杂质均匀分布的半导体中,E0、EC、EV、EF和Ei等能级的能量均为电子势能,由能带图可见,均匀半导体材料的这些电子能级相互平行,梯度相等,即
![](https://epubservercos.yuewen.com/F2D238/19118078808017706/epubprivate/OEBPS/Images/40104_95_3.jpg?sign=1739554826-qdD6pNZo7DdBo5sjsaIRUcCPZzOqNs3T-0-bcc3ba408a4ee605e19d5c1f9a846817)
为方便计,可用处于禁带中心的本征费米能级Ei表征:
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按照式(4-46),ψ梯度的负值等于电场强度F,即
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式中,负号表示电场方向与ψ梯度相反。
如图5-4(a)所示,电子带负电荷,每个电子受电场力-qF作用,电场对电子的作用力等于势能梯度的负值:
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即
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![](https://epubservercos.yuewen.com/F2D238/19118078808017706/epubprivate/OEBPS/Images/40104_95_8.jpg?sign=1739554826-DhkyBVy836uCq9UoCH36Ra5n2yTVlXJL-0-98cd1b8b5d71e99fa247a931c92b246d)
图5-4 n型半导体导电过程
以n型半导体为例,在均匀的n型半导体中,按照电学原理的静电势与电势能的关系,外加电压V(即半导体两端之间的电势差Δψ)将使电子势能随着距离x的增加而线性下降。
图5-4(b)所示为n型半导体导电过程的热平衡情况。电场强度为常数,方向为负x方向,其值为外加电压V除以半导体样品的长度L,即
![](https://epubservercos.yuewen.com/F2D238/19118078808017706/epubprivate/OEBPS/Images/40104_96_1.jpg?sign=1739554826-Lulny6FkAAxplNRrtRFXE0Cc2k8iS5FK-0-0b158666cbcbe4d3a2848164fd7fef2a)
在图5-4(a)中,导带电子在电场作用下首先向外加电压V为正的方向运动,在前进方向上碰撞到晶格时,将部分或全部动能转移给晶格,恢复热平衡状态,然后在电场作用下继续前进,不断重复上述过程,即可形成电子导电。空穴以相反的方向,以同样的方式运动,形成空穴导电。于是,载流子在外电场作用下输运产生漂移电流。
电场促使载流子定向运动,而散射促使载流子运动紊乱,影响电导。
如图5-5所示,考虑截面积为A、长度为L的样品,在样品上外加电场时,样品中电子电流密度Jn等于单位体积内总数为n的所有电子的电荷(-q)与电子速度乘积的总和:
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式中,In为电子电流,n为电子浓度。
![](https://epubservercos.yuewen.com/F2D238/19118078808017706/epubprivate/OEBPS/Images/40104_96_3.jpg?sign=1739554826-j8EjMjqVPNGQCrK9PYp9Uvcl7aAP3Kqk-0-ee72f6dbac4e0358ed5fcd2203b4498c)
图5-5 均匀掺杂长条形半导体样品中的漂移电流
由式(5-7)可知,υn=-μnF,所以Jn为
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空穴的情况与此类似。空穴电荷取正号,得Jp为
![](https://epubservercos.yuewen.com/F2D238/19118078808017706/epubprivate/OEBPS/Images/40104_96_5.jpg?sign=1739554826-eiFLiY9xEwGTQv5fQA4NXiWzp8UhSmrW-0-9118b9bc89cb8fc5d48ebe0547649545)
在外加电场的作用下,流过半导体样品的总电流密度为
![](https://epubservercos.yuewen.com/F2D238/19118078808017706/epubprivate/OEBPS/Images/40104_96_6.jpg?sign=1739554826-VJoxIn1Q7eDPYb4ki9ohDnZ4t43SomAk-0-34e49b2b95707fb115a68022ad1a7917)
式中,σ为电导率:
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半导体的电阻率ρs是σ的倒数,即
![](https://epubservercos.yuewen.com/F2D238/19118078808017706/epubprivate/OEBPS/Images/40104_96_8.jpg?sign=1739554826-Rmj6Pb7GjeUgjF3f5IosJINpdH8kU1C7-0-52ee753858abc6f3f698a81b0ef38ae0)
在掺杂半导体中,电子和空穴这两种载流子的浓度相差很大,因此在n型半导体中,近似地认为
![](https://epubservercos.yuewen.com/F2D238/19118078808017706/epubprivate/OEBPS/Images/40104_97_1.jpg?sign=1739554826-IrlupkBGA5XrEuuv17GMMJuhvkpNAOV3-0-893c1dfaa8344c762d511dbd9213226f)
而在p型半导体中,近似地认为
![](https://epubservercos.yuewen.com/F2D238/19118078808017706/epubprivate/OEBPS/Images/40104_97_2.jpg?sign=1739554826-UJV0QSHpy9K9f4oBkyv4uDKypilVKHUD-0-7562d7421ecf108723e7d08627738077)
轻掺杂时(杂质浓度为1017~1018cm-3),可以认为室温条件下杂质全部电离,式(5-33)和式(5-34)中载流子浓度近似等于杂质浓度,即n≈ND,p≈NA。
采用图5-3给出的迁移率数据和载流子浓度可计算出电阻率。迁移率取决于离化杂质总浓度的大小,即取决于受主浓度和施主浓度之和,而电子浓度和空穴浓度取决于受主浓度和施主浓度之差。
T=300K时非补偿或轻补偿的硅材料的电阻率与杂质浓度的关系曲线如图5-6所示。对于轻掺杂,可以认为在室温下杂质是全部电离的。当掺杂浓度增高时,由于杂质在室温下不能全部电离,迁移率随杂质浓度的增加而显著下降[3]。
![](https://epubservercos.yuewen.com/F2D238/19118078808017706/epubprivate/OEBPS/Images/40104_97_3.jpg?sign=1739554826-CekVlX4zEjGvZkQmFHUY1sGf8wH44SXE-0-bac1dc8fff94c483bd8a9221ba838dce)
图5-6 T=300K时非补偿或轻补偿的硅材料的电阻率与杂质浓度的关系曲线